96% aliuminio oksido keraminio substrato lazerio pjovimo ir rašymo proceso įvedimas

Išplėstinės keraminės plokštės H AVE . Išskirtinių elektrinių izoliacijos savybių pranašumai, puikios aukšto dažnio charakteristikos, geras šilumos laidumas, šiluminio išsiplėtimo greitis, suderinamumas su įvairiais elektroniniais komponentais ir stabilios cheminės savybės. Jie vis labiau naudojami substratų srityje. Aliuminio oksido keramika yra viena iš plačiausiai naudojamų keramikos. Pagerinus aliuminio oksido keraminio substrato apdorojimo tikslumą ir efektyvumą, tradiciniai mechaninio apdorojimo metodai nebegali tenkinti poreikių. Lazerio apdorojimo technologija turi nekontaktinio, lankstumo, didelio efektyvumo, lengvos skaitmeninės valdymo ir aukšto tikslumo pranašumų ir tapo vienu idealiausių šiandien keramikos apdorojimo metodų.

Lazerio rašymas taip pat vadinamas įbrėžimų pjaustymu arba kontroliuojamu lūžių pjaustymu. Mechanizmas yra tas, kad lazerio pluoštas yra orientuotas į aliuminio oksido keraminio substrato paviršių per šviesos kreipiamąjį sistemą, o egzoterminė reakcija sukelia aukštą temperatūrą, abliuojant, tirpstant ir garinant keraminę parašytą plotą. Keraminis paviršius sudaro akluosius skylutes (griovelius), kurios jungiasi vienas su kitu. Jei streso metu atliekamas įtempis, dėl streso koncentracijos, medžiaga lengvai sulaužoma išilgai raštininko linijos, kad būtų galima atlikti pjaustymą.

Lazeriu, apdorojant aliuminio oksido keramiką, substrato pjaustymo ir pjaustymo srityje CO2 ir pluošto lazeriai yra lengvai pasiekiami didelės galios, palyginti pigios ir santykinai mažos apdorojimo ir priežiūros išlaidos, palyginti su kitomis lazerių rūšimis. Aliuminio oksido keramika turi labai didelį absorbciją (virš 80%) CO2 lazeriams, kurių bangos ilgis yra 10,6 mm, todėl CO2 lazeriai plačiai naudojami apdorojant aliuminio oksido keraminius substratus. Tačiau kai CO2 lazeriai apdoroja keraminius substratus, fokusuota vieta yra didelė, o tai riboja apdirbimo tikslumą. Priešingai, pluošto lazerinio keraminio substrato apdorojimas leidžia mažesnę fokusuotą tašką, siauresnį rašymo linijos plotį ir mažesnę pjovimo angą, o tai labiau atitinka tikslaus apdirbimo reikalavimus.

Aliuminio oksido keraminis substratas turi aukštą lazerio šviesos atspindį netoli bangos ilgio 1,06 mm, viršijantis 80%, o tai dažnai sukelia tokias problemas kaip sulaužytos taškai, sulaužytos linijos ir nenuoseklus pjovimo gylis perdirbimo metu. Naudojant aukštos didžiausios galios ir didelės qcw režimo pluošto lazerio vienkartinės energijos charakteristikas, 96% aliuminio oksido keraminių substratų, kurių storis yra 1 mm, pjaustymas ir rašymas, tiesiogiai naudojant orą kaip pagalbines dujas, nereikia pritaikyti sugeriamumo keramikai. paviršius, supaprastina technologinį procesą ir sumažina apdorojimo sąnaudas.